

K&F Concept Nano-C HMC CPL - 52 mm yra apskritas poliarizuojantis filtras, kuris padeda pakeisti varginantį poveikį ir pagerinti kokybę. Daugiasluoksnė HMC danga efektyviai sumažina akinimą, kad rėmeliai būtų aiškūs ir švarūs. Dėl ergonomiškos rankenėlės, reguliuojančios poliarizacijos efektą, galite tiksliai sureguliuoti filtrą pagal savo dabartinius poreikius.
K&F Concept Nano-C HMC CPL - 52 mm yra apskritas poliarizuojantis filtras, kuris padeda pakeisti varginantį poveikį ir pagerinti kokybę. Daugiasluoksnė HMC danga efektyviai sumažina akinimą, kad rėmeliai būtų aiškūs ir švarūs. Dėl ergonomiškos rankenėlės, reguliuojančios poliarizacijos efektą, galite tiksliai sureguliuoti filtrą pagal savo dabartinius poreikius.
Delivery from Lithuania in
1 - 2
business days
K&F Concept Nano-C HMC CPL žiedinis poliarizuojantis filtras - 52 mm
K&F Concept bajonetinis adapteris yra raktas į naujas įvairių gamintojų fotoaparatų ir objektyvų jungtis. Pagaminta iš aukštos kokybės žalvario ir patvaraus aliuminio lydinio, garantuoja ilgaamžiškumą, stabilumą ir tikslų veikimą. Pateiktas modelis leidžia montuoti Leica M objektyvą ant korpuso su Canon RF laikikliu. Adapteris užtikrina tvirtą jungtį ir visišką rankinį valdymą. Kartu pateikiamas apsauginis dėklas, naudingas transportuojant.
Pagrindinės produkto savybės
Suderinamumas
Specifikacija
Rinkinio turinys