Fotoaparato Poliarizacinis Filtras - K&F Concept Nano-C HMC CPL 52 mm
Prekės kodas: 14-6936069208894

Apskritas poliarizacinis filtras objektyvams su 52 mm sriegio jungtimi, pagamintas iš japoniško optinio stiklo ir padengtas 18 sluoksnių HMC danga. Sukamasis žiedas leidžia reguliuoti poliarizaciją, sumažinti atspindžius ir pagerinti kontrastą, o 5 mm aliumininis rėmelis padeda išvengti vinjetavimo; pridedamas apsauginis dėklas.

  • −6%
K&F Concept Nano-C HMC CPL žiedinis poliarizuojantis filtras - 52 mm
K&F Concept Nano-C HMC CPL žiedinis poliarizuojantis filtras - 52 mm
K&F Concept Nano-C HMC CPL žiedinis poliarizuojantis filtras - 52 mm
K&F Concept Nano-C HMC CPL žiedinis poliarizuojantis filtras - 52 mm

Fotoaparato Poliarizacinis Filtras - K&F Concept Nano-C HMC CPL 52 mm

Prekės kodas: 14-6936069208894

Apskritas poliarizacinis filtras objektyvams su 52 mm sriegio jungtimi, pagamintas iš japoniško optinio stiklo ir padengtas 18 sluoksnių HMC danga. Sukamasis žiedas leidžia reguliuoti poliarizaciją, sumažinti atspindžius ir pagerinti kontrastą, o 5 mm aliumininis rėmelis padeda išvengti vinjetavimo; pridedamas apsauginis dėklas.

Jūsų palyginimo sąraše yra 3 prekės, prašome vieną pašalinti ir bandyti dar kartą.
  • Įtraukti į patikusias prekes
  • Pridėta į patikusias prekes
  • Pašalinta iš patikusų prekių
Įtraukti į palyginimą
24,39 €
25,94 €
Prekė sandelyje

Garantija 
24 mėn.

Pristatymas iš Europos
per 15 - 16*
d. d.

Jūsų žinutė sėkmingai išsiųsta!
Užpildykite privalomus laukus*
Netaikoma

K&F Concept Nano-C HMC CPL 52 mm


Žiedinis poliarizacinis filtras objektyvams su 52 mm filtro sriegiu. Jame naudojamas japoniškas optinis stiklas ir 18 sluoksnių HMC danga. Sukamuoju žiedu galima reguliuoti poliarizaciją, sumažinti atspindžius ir paryškinti kontrastą, o 5 mm aliuminio rėmelis padeda sumažinti vinjetavimą. Pridedamas apsauginis dėklas.


  • 52 mm žiedinis poliarizacinis filtras, mažinantis akinimą ir atspindžius nuo stiklo, vandens bei kitų paviršių
  • Sukamasis valdymo žiedas leidžia tiksliai reguliuoti poliarizacijos efektą
  • 18 sluoksnių HMC danga ir japoniškas optinis stiklas užtikrina aiškų vaizdą, geresnį kontrastą ir šviesos pralaidumą
  • Plonas 5 mm aliuminio rėmelis padeda sumažinti vinjetavimą; pridedamas apsauginis dėklas

Informacija apie gaminį
Gaminio tipas Žiedinis poliarizacinis fotoaparato filtras
Prekės ženklas K&F Concept
Modelis Nano-C HMC CPL 52 mm
Paskirtis Mažina akinimą ir atspindžius bei paryškina vaizdo kontrastą

Techninės specifikacijos
Suderinamumas Objektyvai su 52 mm filtro sriegiu
Filtro tipas Žiedinis poliarizatorius (CPL)
Optinė medžiaga Japoniškas optinis stiklas
Danga 18 sluoksnių HMC (kieta daugiasluoksnė danga)
Rėmelio medžiaga Aliuminis
Rėmelio storis 5 mm

Savybės ir pridedami priedai
Poliarizacijos reguliavimas Sukamasis valdymo žiedas
Reguliavimo rankenėlė Tekstūruotas žiedas, palengvinantis montavimą ir sukimą
Vinjetavimo mažinimas Plonas rėmelis padeda sumažinti vinjetavimą
Pridedami priedai Apsauginis filtro dėklas

Saugos informacija
Saugos įspėjimas Naudokite tik su objektyvais, turinčiais suderinamą 52 mm filtro sriegį. Su stikliniu filtru elkitės atsargiai, kad jo nesudaužytumėte, ir laikykite vaikams nepasiekiamoje vietoje.

Height 10 mm
Length 70 mm
Weight 100 g
Width 70 mm
Įžeidžiantys bei reklaminio pobūdžio komentarai yra nepublikuojami.
Atsiliepimų nėra !
Atsiliepimas