Filtras - K&F Concept Nano-X MRC CPL 58mm Apvalus Poliarizacinis Filtras

K&F Concept Nano-X Poliarizacinis Filtras

Transformuokite savo fotografiją su mūsų pažangiu poliarizaciniu filtru, sukurtu pašalinti nepageidaujamą atspindį ir pagerinti vaizdo aiškumą. 58 mm sriegio K&F Concept Nano-X MRC CPL Apvalus Poliarizacinis Filtras pasižymi aukštos kokybės HD optiniu stiklu iš Japonijos kompanijos AGC, užtikrinančiu išskirtinį ryškumą ir spalvų atkūrimą.

Patirkite tikslų poliarizacinių efektų valdymą su mūsų lengvai naudojamu dizainu. Sukite filtrą, kad pabrėžtumėte arba sumažintumėte poliarizacinį efektą ir mėgaukitės intensyvesnėmis mėlynomis dangaus spalvomis, gilesnėmis žalios lapijos atspalviais ir sumažintu atspindžiu. Jūsų nuotraukos įgis aiškumą ir kontrastą, atskleidžiančius tikrąją jūsų objektų grožį.

Su 28 sluoksnių NANOTEC danga, skirta atspindžio mažinimui, ir pagamintas iš lengvo bei tvirto aliuminio lydinio, šis filtras yra ne tik efektyvus, bet ir lengvai valdomas. 5,5 mm storio rėmas užkerta kelią vignetavimui, o hidrofobinės savybės palengvina valymą.

Pagrindinės savybės:

• Poliarizacinis filtras su 58 mm sriegio patogiam tvirtinimui
• Aukštos kokybės HD optinis stiklas iš Japonijos kompanijos AGC, užtikrinantis išskirtinį ryškumą ir spalvų atkūrimą
• 28 sluoksnių NANOTEC danga atspindžio mažinimui ir ilgaamžiškumui
• Lengvos ir tvirtos aliuminio lydinio konstrukcija
• 5,5 mm storio rėmas, kad būtų išvengta vignetavimo
• Hidrofobinės savybės, leidžiančios lengvai valyti
• Pasukamas dizainas tiksliai poliarizacinių efektų kontrolei

Techninės specifikacijos:

• Filtras: Poliarizacinis
• Medžiaga: Lėktuvų aliuminio lydinys
• Stiklas: Japonijos AGC stiklas
• Danga: NANOTEC (28 sluoksniai)
• Atspindys: 0,2%
• Storis: 5,5 mm
• Srieginio skersmens: 58 mm